最新高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統,通過全方位的設計優化,實現更簡便的操作,更快的刻寫速度,更小的占地面積和安裝空間,并且更加綠色節能。...
了解詳情JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 節點的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統。 最先進的技術實現了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束...
了解詳情JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm節點的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統。 最先進的技術實現了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束...
了解詳情JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統,兼具世界最高水平的產出量和定位精度,最大能容納300mm的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納米壓印、光子器件、通信設備等多個領域的研發及...
了解詳情JBX-6300FS的電子光學系統在100kV的加速電壓下能自動調整直徑為(計算值)2.1nm的電子束,簡便地描畫出線寬在8nm以下(實際可達5nm)的圖形。 此外,該光刻系統還實現了9nm以下的場拼接...
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